第一三八六章 光刻机的现状（下）(第2页)

孙健转移话题，也是告诉公司高层，gCA账上的现金流不是多了，而是远远不够。

前世，euvLLC联盟的几百位顶尖科学家在一起联合研发了6年多，发表了几百篇科研论文，从理论上验证了euv光刻机是可行的，目的达到，解散了euvLLC联盟，接下来的实际问题都抛给了AsmL，面对如此高深的技术，AsmL是选择做还是不做？

AsmL一家之力不可能完成研制成功euv光刻机这项宏伟工程，不得不拿出公司近三成的股权，向下游光刻机重要客户intel、台积电和三星电子融资了60多亿美元！

据说为了研发euv光刻机，AsmL前前后后在将近20年时间内投入上百亿美元的研发费用。

gikon占据光刻机的高端市场，技术水平不分仲伯，但由于高端光刻机用户intel、iBm、it、Adm、hp同gCA既是seatech会员，又是gCA的股东，采用一致对外的策略，gCA的高端光刻机是首选，gCA如今占据全球高端市场份额的近7成，nikon占3成多。

在技术水平相同的情况下，市场起决定因素。根据光刻机技术和市场占有率，gCA如今成为名副其实的全球老大，nikon屈居第二。

nikon想从gCA的手里抢回intel、iBm、it、Adm、hp的高端光刻机订单，只能率先攻克193n波长的世界性难题，第一个研发成功65n制程工艺的光刻机才有可能。

在nikon技术领先的情况下，intel、iBm、it、Adm、hp就会以公司的利益为重。

AsmL的工程师琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发，于1996年9月，研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统，但为时已晚，AsmL和其他光刻机公司都购买了BseC的专利技术，自己生产光刻机双工作平台系统，BseC负责升级；除了gCA，其他公司生产一台光刻机需要缴纳相当于每台光刻机售价1的专利使用费。

gCA如今已经升级配套90n制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术，遥遥领先于AsmL的技术，按照专利技术转让协定，Bseikon、AsmL、和svg。