第308章 对江成及光刻机的打压策略(第2页)

　　“他的室友关系呢？有没有掌握？”

　　“这一块，我安排人员尽快收集。”大卫忙道。

　　这个领导也是的，不论是摸排得多详细，人家还是要提个问题。

　　不是因为这个问题有多高明，而是能够展示一下他的厉害罢了。

　　对此，他的性格大卫早已经摸清。

　　塞维斯点点头，“这些要快，对江成的关注评级再提升一个等级，要安排专人队伍时刻掌握其行踪、公司发展方向和进展。”

　　“另外，还要让我们的人进入到他的公司，争取做到中高层以上。”

　　大卫叹了口气，道，“现在很难，华国安全部门对枫火公司关注得很，他们公司的保密要求也很严格，我们的人都不敢轻易动。”

　　“那就要找机会。我们有时间。”塞维斯静静地道。

　　“明白。”

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　　阿斯麦耳公司，戴拿正和莫斯特交代此次去华国诉讼的相关注意事项。

　　“这次既然有米国高层撑腰，别的我们不管，我们自己要去看看对方的光刻机，是不是抄袭和侵犯我们的专利。”

　　莫斯特不在意地道，“放心，除了我们的诉讼团队，米国还有团队专门和华国高层商议光刻机侵犯专利的事情，一定可以让我们进入到魔都微电子调查一番。”

　　“不能掉以轻心，华国一向强硬，不会那么轻松让我们如愿的。”戴拿总裁摇摇头，心头却是仍有忧虑。

　　他不知道这个举动是好是坏。

　　对于阿斯麦耳来说，euv光刻机是最领先的，只要这个不被突破，他最后的底线还在。

　　当然，就目前来说，duv浸没式光刻机是销量的主流，如果华国的光刻机只在华国销售的话，那倒没有什么大问题，不会影响太大。

　　莫斯特道，“亚洲市场负

　　责人梁永兵报告说，枫火半导体已经使用了魔都微的光刻机，目前的芯片良率达到了95%以上，32nm工艺。”

　　随后又道，“现在我们不确定的是，他们是否会用多重曝光和finfet技术，如果这两项技术他们掌握了，很快他们就可以进入28nm以内的更高制程。”