第八十四章 见证历史，14纳米轻舟处理器问世！(第2页)

 在他的身侧，高永明打着助攻道：“曲老真是大气啊，这块老班章收藏有十年了

吧？”

 曲程瞥了他一眼，淡淡说道：“正好十年。”

 坐在对面，金发碧眼，身形消瘦的拉比兹一惊，用蹩脚的中文感谢道：“虽然我不懂茶叶，但收藏了十年，那这个肯定是好东西。”

 “那是自然。”

 曲程面无表情，淡淡回复。

 拉比兹听后，也是拿起茶杯细细品鉴道：“嗯…好浓的茶香，而且喝下去以后还有股甜味，这就是你们龙国人说的回甘是吗？”

 “没错，这就是正宗老班章才有的回甘。”

 曲程搭话道。

 坐在一侧的高永明嘴唇轻微蠕动，牙齿不断咬着内唇，用痛觉来消减笑意。

 十年老班章？

 怎么可能给你喝真的！

 对于这位白吃白喝，负责监控他们使用光刻机的“**监控摄像头”，不给你喝毒药就不错了，还给你喝十年老班章。

 不过让高永明没想到的是，他曲程一把年纪了，居然这么损，戏还演的那么好。

 二十块买的工业茶，硬是说成正宗老班章。

 “啊！”

 在喝了第二杯后，拉比兹也开门见山道：“两位找我，应该不只是喝茶吧？”

 “对，找你订购光刻机。”曲程不紧不慢说道。

 高永明见进入正题，也说出目的道：“我们想再订一台20纳米制程的光刻机。”

 “噢？你要扩大生产？”

 拉比兹看向高永明询问道。

 高永明点了点头，想着怎么拖延时间道：“想试试接20纳米的订单，哦对了，14纳米的euv光刻机你看能……”

 话音未落，拉比兹打断道：“抱歉高总，euv光刻机可不是我能够说了算的，你们自己也很清楚，到底是谁在限制你们。”

 “说得也对，我们还是继续谈20纳米制程的duv光刻机吧。”曲程打了个圆场道。

 两人的任务很简单，就是拖延足够多的时间。

 等另一位荷兰工程师来交班，估计就差不多了，现在就拼命拖延就完事了。

 ……

 芯片生产车间。

 20纳米制程光刻机内部。

 第一块光掩膜版已经安装，光刻机镜头正射出193纳米波长的深紫外光光源，每次曝光，都会在底部的晶圆片上刻出设计好的芯片电路图案。

 随着移动平台的不断移动，以及光刻机镜头的不断曝光，晶圆片被刻上了密密麻麻的芯片电路图，如果是生产20纳米芯片，现在就已经完成光刻，可以直接送交切割封装检测了。

 但用duv光刻机生产14纳米芯片，一次曝光根本不能满足需求，需要二次曝光。

 “取出第一块光掩膜版，安装第二块光掩膜版。”林天目光看向冯承铭说道。

 冯承铭立马照做。

 当第二块光掩膜版放入光刻机镜头处，林天开始亲自校准，并讲解道：“听好了，多重曝光技术难的点在于晶圆对齐，如果两次的点位出现偏差，第二次曝光将会损坏第一次曝光留下的电路图案，因此要多加小心。”

 在确认没问题以后，他看向冯承铭道：“二次涂抹光刻胶，进行二次曝光步骤。”

 “明白了。”

 冯承铭闻言照做。

 “光刻胶要均匀分布，这点应该难不倒你们。”林天淡淡道。

 在二次步骤准备好后，光刻机再次启动，开始在底部晶圆上进行二次曝光。

 看似步骤简单，但其实任何微小的误差，都有可能导致整张晶圆报废。

 一张晶圆报废，那就是十几万的损失。

 因为一张12英寸的晶圆，也就是常说的硅片，它就能大概切出500枚芯片。

 按照骁龙810处理器的市场价300元来算，损坏一张晶圆，就相当于损失了15万。

 当然了。

 14纳米的轻舟处理器会更贵！

 随着光刻机启动，193纳米波长的深紫外光不断地曝光，底部的移动平台也不断移动，弥补第一次曝光电路图案的不足。

 数分钟过去。

 晶圆二次曝光结束。

 等待片刻以后，林天戴上手套亲自取出晶圆，眯起眼睛仔细观察电路图案，大致看不出图案有重叠，但还需要进行测验。

 “加急送去切割测验。”

 冯承铭目光看向身旁的工程师，使了个眼色道：“小龙，你拿去切割测验。”

 “我？”

 那名工程师愣了愣。

 他还没实操一遍呢，学不会多重曝光咋办？

 冯承铭瞪了他一眼，像似在说你不去，难道要我去啊！

 没办法。

 那名工程师只好照做。

 “好了，也给你们示范了，都自己试试，难度也就集中在晶圆对准上面。”