第一六七九章 第二家新能源汽车生产基地(第2页)

浸没式双工作台的表面涂层需具备抗腐蚀性，以应对长期接触浸润液体的工况；液体流动产生的微振动要求浸没式双工作台具备更高频的主动减振能力；浸没式双工作台对运动精度要求呈指数级提升；浸没式双工作台需重新校准光学与运动控制系统……n

林本坚这次私下问过AsmL双工作台系统研究实验室主任琼斯，对方预计，将现有的90n制程干式双工作台改造为65n制程浸没式双工作台，需要增加30%左右的硬件成本，软件也需要重新升级，最少需要半年的时间。n

AsmL光刻机研发中心双工作台系统研究实验室有50多名研发人员，琼斯也不敢肯定6个月就能解决这些难题。n

林本坚怀疑，BseC光刻机研究院去年就研发成功浸没式光刻机。n

林本坚还担心，即使AsmL升级改造成功65n制程浸没式双工作台系统，能否达到Bse制程双工作台系统同样的性能？n

1996年9月，琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发，研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统。n

当时，AsmL和其他光刻机公司（除了gCA）付给每台相当于售价1%的专利费，购买BseC双工作台系统专利技术，自己生产双工作台系统，BseC负责硬件和软件升级。n

BseC每代制程的双工作台系统由gCA或BseC负责升级，免费交给光刻机厂升级改造，通过晶圆厂常年使用，多方不断纠正硬件和软件中出现的缺陷和Bug，不断完善。n

“蔡总，我们要求AsmL出厂的浸没式光刻机继续配套BseC浸没式双工作台系统。”n

AsmL一直对外宣称在高端光刻机上配套BseC双工作台系统，在中低端光刻机上配套AsmL双工作台系统，虽然早也升级到90n制程双工作台系统，但硬件和软件的故障率明显高于BseC，导致大多数晶圆厂购买AsmL光刻机时，明确要求配套BseC双工作台系统，宁可多付钱。n

“董事长，虽然AsmL也会同意，但担心到时BseC浸没式双工作台系统没有拿到国际发明专利证书。”n