第九九八章 重回世界之巅

硅谷。

gCA总部。

“公司拿出200万美元奖励gCA3500B项目部。”

周五下午，孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话，第二天就乘飞机来到硅谷。

啪啪……

艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容，扬眉吐气。

gCA光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和350n制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，安装在一台gCA3500A光刻机上，制程工艺突破350n，通过多次测试，最高达到320n，命名为gCA3500B，制程工艺超过nikon3500B光刻机，还提升47%的生产效率，创了新的世界纪录！

去年底研制成功gCA3500A是一个巨大的突破，与nikon3500B光刻机的制程工艺看起来相同，但由于安装有适合8英寸晶圆和500n制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，gCA3500A的制程工艺和生产效率明显超过nikon3500光刻机，经过seatech专家组技术认证后，inteL、iBm、ti、Amd和hp半导体设备公司预定了五台gCA3500A光刻机。

紧接着，gCA股东大会通过并实施向10名特定投资者以每股1.5美元的价格，定向增发10亿新股的方案，其中peng购买了3亿股，AtiC购买了2亿股，gCA融资145500万美元，现金流大增，召回和招聘了400多名研发人员和技术工人，启动了3条光刻机半导体设备生产线，如今能同时生产五台gCA3500A光刻机。

随着5台gCA3500A光刻机的交付使用，用户反应良好，inteL、iBm、ti、Amd和hp等公司又预定了14台gCA3500A光刻机，还从台积电拿到一条价值60亿美元的8英寸晶圆和以gCA3500A为主的半导体生产线订单。

为了提高芯片生产工艺和一小时单位产能（wph），一家晶圆厂（fAB）在一条先进的半导体生产线上一般配备20台左右的光刻机，高低搭配，除了最的无需最先进的光刻机。

一条半导体生产线中，除了占到半导体生产线成本三分之一的光刻机外，还需要清洗设备、高温/氧化炉管退火设备、匀胶机、烘干设备、显影设备、刻蚀机、去胶机、离子注入设备、CvdpvdaLdpeCvdcmp等大批高精尖设备，数量最多的是沉积设备（包括pvdCvd）、刻蚀设备（iCp、CCp、die）和热处理设备（rtp），gCA如今六成需要从其他半导体设备厂定购，然后系统集成。