第九五六章 研发极紫外光
前世由于AsmL独有的euv光源无人能够研制，国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力，以美国为首的西方国家并没有限制Arf准分子激光器和Arfi准分子激光器的出口。
BseC可以直接进口市场价45五万美元一台的gCA牌Arf准分子激光器，购买蔡司公司生产的光学系统，进口6英寸晶圆，加上独创的光刻机磁悬浮式双工作台系统，就能生产1u制程工艺的光刻机，虽然6英寸晶圆、1u制程工艺的半导体生产线是西方国家淘汰的生产线，但在国内还大有市场。
BseC就可以活下来！
理想很美好，但现实很骨感，BseC就是能制造1u制程工艺的光刻机，不代表能生产6英寸晶圆、1u制程工艺的半导体生产线！
国内缺乏半导体生产线设备的全产业链，如今都压在了BseC的肩上。
BseC生产的1u制程工艺的光刻机也没有晶圆公司会用！
谁投资谁倒霉，这就是“造不如买、买不如租”的主要原因！
好在193n波长的世界性光学难题将困惑光刻机行业八年，给了BseC成长的机会，不然重生者也无能为力。
BseC的突破点就是赶在AsmL之前率先研制成功世界上第一台193n波长的浸没式光刻机！
孙健所有的运作就是围绕这个突破点！
euv光刻机太过复杂，即使投入巨资研发成功euv光源，但对相关的光学系统、光刻胶、掩膜版等设备和材料的要求太过苛刻，需要十万个零件，据说前世有五千多家生产商为euv光刻机供货，重生者还不敢付诸实践。
“孙董事长，BseC能否不转让磁悬浮式双工作台系统专利给nikon？”
拥有了BseC的磁悬浮式双工作台系统专利的终身授权，gCA光刻机光学精密设备研究所升级改造，只要研制成功适应800n制程工艺的磁悬浮式双工作台系统（不能出售和转让专利技术），gCA光刻机的制程工艺就有可能达到500n，达到nikon光刻机的制程工艺，购买休斯电子材料公司（AemC）生产的8英寸晶圆，还能提高35%左右的产能。